某光电器件集成ic开发厂在晶圆生产制作的过程 中，采用硅烷去硅外加生長，废气洗條塔生产高浓硫酸浓度含硅生产电镀废水。生产电镀废水具备pH振幅大（2-11）、硅占比高的显著特点，普通加工处理办法易冒出硅垢空气能管道堵塞故障 。 废水处理工艺成份及渠道 焦化废水核心成份为： 溶解完性硅酸盐 ：SiO₂质量浓度达1000-1500mg/L 硝酸钠/氢氧化反应钠 ：洗洁塔酸碱平衡洗洁液残渣 科粒硅 ：納米级SiO₂氢氧化铁 痕量砷 ：原石杂物带 外理制作工艺标准流程 革新主要采用"多级采和+膜过滤清洁+多效蒸发晶体"生产工艺： 三级与 ：用CaO转换pH至4-5，产生硅酸钙积淀，硅剔除率60%。 二级考试与 ：加Na₂CO₃将pH上升至9，进那步放置已满硅，串联用镁剂除砷。 反渗透膜整体 ：0.02μm陶瓷制品膜油烟净化器nm级硅粒状，通量稳定性高在80LMH。 MVR蒸馏器 ：萃取高盐废水处理方法，凝结出Na₂SO₄副成品，水回收率超90%。 进而疗效 总硅从1500mg/L下降5mg/L这 砷成分从0.8mg/L降低0.01mg/L 整体无水垢正常运作超越2年 每一年的回收利用硝酸钠钠硫化锌约800吨